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我校武汉光电国度议论中心团队

在国内最初攻克

合成光刻胶所需的原料和配方

助推我国芯片制造要害原材料

打破瓶颈

其研发的T150A光刻胶系列产物

已通过半导体工艺量产考据

收场了 原材料一皆国产

配方全自主打算

有望始创国内半导体光刻制造新样貌

光刻胶是一种感光材料，用于芯片制造的光刻顺次，责任旨趣访佛于摄影机的菲林曝光。芯片制造时，会在晶圆上涂上光刻胶，在掩膜版上绘画好电路图。当色泽透过掩膜版照耀到光刻胶上会发生曝光，历程一系列料理后，晶圆上就会得到所需的电路图。 由于光刻胶是芯片制造的要害材料，国际企业对其原料和配方高度守秘，当今我国所使用的光刻胶九成以上依赖入口。

武汉光电国度议论中心团队研发的这款半导体专用光刻胶对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。 相较于国际同系列某产物，T150A在光刻工艺中发扬出的极限别离率达到120nm，且工艺优容度更大、牢固性更高、留膜率更优，其对刻蚀工艺发扬更好，通过考据发现T150A中密集图形历程刻蚀，基层介质的侧壁垂直度发扬优异。

团队在电子化学品范围深耕二十余载，驻足于要害光刻胶底层技艺议论，致力于半导体专用高端电子化学品原材料和光刻胶的栽培，并以新技艺道路为半导体制造开荒新式先进光刻制造技艺，同期为材料的分析与考据提供全面的技能。

团队精良东说念主默示：“以光刻技艺的分子基础议论和原材料的栽培为起原，最终取得具有自主学问产权的配方技艺，这仅仅个初始。咱们团队还会发展一系列愚弄于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，致力于打破国际卡脖子要害技艺，为国内相干产业带来更多惊喜。”

来源：华科

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